Compra y reciclaje de obleas IC
Oblea de primer grado
Las obleas de silicio de primer grado son las mejores y más altas obleas de silicio.Se puede utilizar para la fabricación de dispositivos, con propiedades que normalmente incluyen una superficie extremadamente lisa y una baja variación de espesor total (TTV).Su excelente calidad y superficie pulida con la capacidad de ofrecer especificaciones de resistividad más estrictas son algo que hace que las obleas de grado Prime sean las mejores.Ofrece una calidad excepcional, una superficie pulida y una vida útil prolongada.
| 6 pulgadas (150 mm),8 pulgadas (200 mm),12 pulgadas (300 mm) |  |  |
Oblea de grado de prueba/oblea ficticia
La oblea ficticia (también llamada obleas de prueba) es una oblea ficticia de Si que se utiliza principalmente para experimentos y pruebas.Las obleas de grado de prueba son de alta calidad pero tienen propiedades menos estrictas que las obleas de grado principal.En consecuencia, las obleas recuperadas se aplican principalmente como obleas de grado ficticio (obleas de prueba).Las obleas de grado de prueba se utilizan a menudo en aplicaciones que requieren una gran cantidad de obleas para pruebas de equipos y fabricación.En cada proceso, el espesor de la película, la resistencia a la presión, el índice de reflexión y la presencia de pinball se miden utilizando obleas ficticias (obleas de prueba).
| 6 pulgadas (150 mm),8 pulgadas (200 mm),12 pulgadas (300 mm)
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Oblea de grado de prueba/obleas de monitor
Las obleas de monitor son las obleas de silicio desnudas que se utilizarán en el caso de que se requiera un ajuste en cada paso de producción antes de la producción real de IC.Por ejemplo, cuando se establecen las condiciones de cada proceso, como el caso de medir la tolerancia del dispositivo contra (la variación de) el grosor del sustrato, se utilizan obleas de silicio coinroll para obleas espaciadoras como sustitución de obleas de alto estándar y alto valor. .Además, también se utilizan con fines de control en el proceso junto con obleas de producto.
| 6 pulgadas (150 mm),8 pulgadas (200 mm),12 pulgadas (300 mm) |  |  |
Oblea recuperada
Debido a los altos costos del silicio de primera calidad y los grandes volúmenes consumidos,muchas instalaciones de semiconductores utilizan obleas recuperadas para optimizar y monitorear sus procesos y equipos de fabricación.Reclaim implica eliminar el material no deseado de la oblea con una combinación de procesos secos y húmedos, y luego pulir y limpiar la oblea para restaurar la superficie de silicio a un grado utilizable.La naturaleza del proceso típico requiere cierta eliminación de silicio.La fuente de las obleas recuperadas proviene de las obleas del monitor y las obleas ficticias, pero no de las obleas defectuosas en la fábrica de semiconductores.La recuperación de estas obleas de monitor y obleas ficticias para restaurar puede reducir drásticamente el costo de funcionamiento de una fábrica.
| 6 pulgadas (150 mm),8 pulgadas (200 mm),12 pulgadas (300 mm)
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Oblea pulverizada
El proceso de pulverización catódica ha sido diseñado para depositar películas metálicas y dieléctricas ultralimpias.Todo el procesamiento de obleas, incluida la deposición de metal, se realiza dentro de una sala limpia.Es necesario un grabado por radiofrecuencia in situ en el proceso para garantizar una buena adhesión de la película y un contacto óhmico con las capas conductoras subyacentes.Todas las películas de pulverización catódica están disponibles en tamaños de obleas de silicio de hasta 300 mm de diámetro.Tenemos la demanda de una amplia variedad de metales no preciosos pulverizados, películas dieléctricas y silicio.Las películas pulverizadas más populares incluyen: cobre, aluminio, níquel y otras.
| 150〜300mm |  |  |
Otra oblea de semiconductores
Oblea estampada.Las obleas de silicio estampadas tienen los mismos requisitos de calidad y limpieza que las obleas de silicio estampadas estándar.(Sin patrón) Bare Wafer.Una gran oblea de silicio desnudo, o SDB, es una oblea de silicio que tiene más de ocho pulgadas de diámetro.Los procesos eficientes de producción y fabricación de semiconductores comienzan con el control de calidad de las obleas epitaxiales y de silicio desnudo.Oblea de tabique de metal.Oblea de tabique no metálica.Otros oblea semiconductora.
| 200 y 300 mm |  |  |